Universidad Nacional Autónoma de México

Convocatorias
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Aplicación de fotoresina y HMDS

Plancha de recocido

Evaporación de solventes de la película de fotoresina.

Capacidades

Esta plancha se utiliza para evaporar los solventes de la película de fotoresina. La optimización del recocido de las muestras puede influir positivamente en etapas posteriores de la fabricación; durante el recocido, el espesor de la resina normalmente disminuye un 25%. El proceso se debe llevar a cabo en una superficie lisa para un buen contacto térmico y un calentamiento uniforme. El tratamiento térmico usualmente se realiza entre 90 y 120 °C durante 60 segundos aproximadamente.

Especificaciones

Temperatura típica
90–120 °C
Tiempo típico
≈ 60 s